氧化釔是一種常用的高折射率材料,分子量為441.89,熔點(diǎn)1800℃,1920℃的蒸發(fā)溫度10-2Pa真空,小排放的雜質(zhì)氣體,可以加熱氧化釔、鎢船,線(xiàn)圈,或鎢爪,通過(guò)電子束蒸發(fā)加熱效果好。

氧化釔化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，溶于熔融的硫酸氫鉀和氫氟酸，不溶于水或其他酸。根據(jù)x射線(xiàn)衍射分析，氧化釔原料為菱形體系，經(jīng)高溫?zé)Y(jié)成涂層材料，轉(zhuǎn)化為三等斜和四方體系的混合晶體。

氧化釔薄膜穩(wěn)定性好，不易結(jié)晶。其透明區(qū)域?yàn)?.3~10μm，折射率n=2.25 (λ=0.4μm)， n=2.1 (λ=0.55μm, Ts=250℃)。在可見(jiàn)光紅外波段是透明的，無(wú)論是通過(guò)電子槍蒸發(fā)、磁控濺射還是離子束濺射鍍，都比鈦白粉鍍更穩(wěn)定。以氧化釔加7%重量的鉭作為初始涂層材料時(shí)，涂層更加穩(wěn)定。根據(jù)離子輔助沉積的電子槍和濺射涂層目標(biāo)的經(jīng)驗(yàn)(Ta),氧化釔板比二氧化鈦薄膜很容易得到較小的吸收和散射的薄膜,薄膜沉積速率也可以更快,體積密度接近1,因此常用于配合二氧化硅鍍低散射、低吸收的多層膜過(guò)濾器等。它也可以用作保護(hù)涂層，特別是在高溫應(yīng)用。

氧化釔薄膜可以通過(guò)電阻加熱或電蒸發(fā)從熔體沉積。薄膜的密度和折射率隨襯底溫度的升高而增大。在硫化鋅、玻璃和鍺基板上粘貼厚度大于2μm，加熱至250℃。氟化釔不溶于水，因此適用于高溫。在較冷的襯底上，在2.8 ~ 3.2μm和5.6 ~ 7.3μm深度存在2-5%的吸水區(qū)。當(dāng)與ZnS或ZnSe多層膜結(jié)合使用時(shí)，襯底溫度必須降低到~175℃，以避免這些材料在較高溫度下表現(xiàn)出的低粘附系數(shù)。在襯底溫度低于150℃時(shí)可以制備出低散射的非晶薄膜，但會(huì)影響薄膜的附著力和折射率。在~250°C以上，薄膜變得結(jié)晶和堅(jiān)硬，但他們表現(xiàn)出顯著的分散和承受更高的應(yīng)力。